磁控濺射鍍膜機是一種普適鍍膜機，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其他化學反應膜，亦可鍍鐵磁材料。主要用于實驗室制備有機光電器件的金屬電極及介電層，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。磁控濺射鍍膜機主要優勢：1、實用性：1.1、設備集成度高，結構緊湊，占地面積小，可以放置于實驗桌面上即可；1.2、通過更換設備上下法蘭可以實現磁控與蒸發功能的轉換，實現一機多用；2、方便性：2.1、設備需要拆卸的部分均采用即插...

脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕，是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。發展歷程：脈沖激光沉積的發展與探究，處處受制。事實上，當時的激光科技還未成熟，可以得到的激光種類有限；輸出的激光既不穩定，重復頻率亦太低，使任何實際的膜生成過程均不能付諸實行。因此，PLD在薄膜制作的發展比其它技術落后。以分子束外延（MBE）為例，制造出來的薄膜質素就優良得多。往后十年，由于激光科技的急速發展，提升了PLD的競爭能力。與早前的紅寶...

深能級瞬態譜儀是半導體領域研究和檢測半導體雜質、缺陷深能級、界面態等的重要技術手段。根據半導體P-N結、金－半接觸結構肖特基結的瞬態電容（△C～t）技術和深能級瞬態譜（DLTS）的發射率窗技術測量出的深能級瞬態譜，是一種具有*檢測靈敏度(檢測靈敏度通常為半導體材料中摻雜濟濃度的萬分之一)的實驗方法，能檢測半導體中微量雜質、缺陷的深能級及界面態。通過對樣品的溫度掃描，可以給出表征半導體禁帶范圍內的雜質、缺陷深能級及界面態隨溫度（即能量）分布的DLTS譜。集成多種全自動的測量模式...

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表...

勻膠機其工作原理是高速旋轉基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同,也和旋轉速度及時間有關。勻膠機是在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備，膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。從其原理來說，可以看出選購勻膠機需要注意的幾個細節：1、旋轉速度轉速的快慢和控制精度直接關系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉速和電機的實際轉速誤差很大，對于要求精密涂覆的科研人員來說是無法獲...

在許多實際試驗中,需要使用氣溶膠發生器,以固定的粒徑分布連續穩定地產生濃度可調的氣溶膠粒子。氣溶膠主要是用特殊的噴嘴設計的。壓縮空氣通過一個圓形槽被吹入霧化液體。噴氣口與液體之間的剪切力在所謂的環形間隙中充分分散,形成微小的氣溶膠粒子,慣性對撞機體積較大。當氣溶膠顆粒返回液體容器時,輸出顆粒尺寸主要分布在0.1到10微米之間。適用于醫療器械檢驗機構、疾病預防控制中心、醫院、制藥企業、高效過器生產企業等潔凈室、高效過濾器的檢漏。然而新手在使用儀器時都會遇到一些問題，下面我們來仔...