皮可安培計的核心優勢及產品特點皮可安培計的測試需要把測試電壓或強制電壓施加到器件的輸入端，并測量導致的任何泄漏電流和偏移電流，這經常是在1pA或更低的級別進行的，使器件測試吞吐速度達到很高。表面貼裝元件的廣泛使用使它的印制電路板空間要求降到了低，并使多個測量電路的封裝能靠近測試夾具，可選帶上下限報警控制功能，用軸承支持活動部分的儀表，不可避免地會存在摩擦而產生的摩擦力矩，它會在不同程度上阻礙活動部分的運動，使活動部分停在偏離真實平衡位置的地方，致使儀表指示產生誤差。皮可安培計...

表面光電壓譜保證良好的波長準確度和重復性表面光電壓譜一體整合，空間更緊湊，操作更簡便；高精度，自動化，數字化，讓實驗數據更準確；高均勻可調節光纖光源，特別為光電極輻照設計。半導體材料的光生電壓性能的測試分析，可開展光催化等方面的機理研究，應用于太陽能電池、光解水制氫等方面的研究，研究光生電荷的性質，如：光生電荷擴散方向；解析光生電荷屬性等。表面光電壓譜模組化設計，緊扣用戶需求，經濟靈活，適用面廣，升級、改造、維護均很方便，可選大功率鹵鎢燈及大功率氙燈光源，也可使用用戶已有或的...

氣溶膠粒徑譜儀粉塵發生器在質量控制中有著廣泛應用氣溶膠粒徑譜儀粉塵發生器基于單一顆粒的光散射的原理測量顆粒粒徑分布，而無需假設特定分布，例如對數正態粒徑分布，該方法將高敏感性、高準確性和高速測量結合起來，并實現對高濃度氣溶膠顆粒的粒徑分布的測量。氣溶膠粒徑譜儀粉塵發生器采用近前向散射技術，使得顆粒形狀和折射率對測量結果的影響降至低，并專為高濃度氣溶膠顆粒的測量進行了設計，技術上的解決解決方案就是通過空氣動力學及光學聚焦產生一個足夠小的測量體積，小的測量體積能夠有效降低重疊誤差...

激光直寫提高工作量和用戶安全程度激光直寫光刻機是桌面型高分辨率激光光刻系統，它通過固定連續的375nm或405nm紫外光源在光刻膠或紫外敏感膠中直接刻劃獲得微納結構，直寫面積高達4英寸，特征尺寸（寬度）可達1微米。激光直寫光刻機提供豎直和掃描直寫模式，確保直接軌跡偏離小于100nm，具有電動光學聚焦系統，提供快速的聚焦功能，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統裝備到襯底室供客戶選配，增強清潔程度，提高工作量和用戶安全程度。激光直寫不僅具有無掩模板直寫系統的靈活...