隨著微電子技術和納米技術的快速發展,光刻技術成為了半導體制造和高精度微加工中的核心技術。尤其是半自動光刻機,憑借其較高的性價比和較為靈活的操作模式,已經在許多高精度微加工領域中得到了廣泛應用。一、半自動光刻機的工作原理光刻技術通過利用光敏材料(光刻膠)在紫外光或激光照射下發生化學...
狹縫擠出式涂布機(SlotDieCoatingMachine)作為一種先進的精密涂布設備,憑借其高均勻性、高效率和適應性強等特點,已成為當前高性能涂層制備的重要工具之一。與傳統刮刀式或輥涂式涂布方式相比,狹縫擠出式涂布具有更穩定的涂布厚度控制能力,尤其適用于鋰電池極片、OLED顯示膜層、柔性電路板、光學膜等高附加值產品的生產。一、基本概念是一種通過精確控制液體流量與基材運動速度,在基材表面形成均勻涂層的連續涂布設備。其核心部件為“狹縫模頭(SlotDie)”,該模頭具有一個可...
旋涂儀是一種廣泛應用于材料科學、半導體制造、微電子、光學和生物醫學等領域的實驗室設備,用于在基片(如硅片、玻璃片、聚合物片等)表面均勻涂覆液體薄膜(如光刻膠、聚合物溶液、生物材料等)。其核心原理是利用高速旋轉產生的離心力,使液體材料均勻鋪展并形成厚度可控的薄膜。一、工作原理滴液:將液體材料(如光刻膠)滴加到靜止或低速旋轉的基片中心。加速旋轉:基片在電機驅動下高速旋轉,離心力使液體材料從中心向外鋪展。薄膜形成:隨著旋轉速度穩定,液體材料在基片表面形成均勻的薄膜。溶劑揮發(可選)...
球磨測厚儀廣泛應用于材料表面厚度測量,特別是在金屬、陶瓷等行業中,但由于其操作過程涉及高能量的旋轉和精密儀器,正確的使用和安全操作尤為重要。為了確保操作安全并提高測量準確性,下面總結了安全操作球磨測厚儀的五大關鍵要點。1、確保操作環境清潔與干燥球磨儀通常需要在無塵、干燥的環境中使用。灰塵和濕氣可能影響儀器的性能,尤其是影響傳感器的精度和數據穩定性。操作前,要確保工作臺面清潔,并避免任何液體進入儀器內部。在操作過程中,也應保持周圍環境的通風,避免溫度過高或過低,以確保設備穩定運...
飛行時間二次離子質譜(TOF-SIMS)是一種高靈敏度的表面分析技術,廣泛應用于材料科學中用于研究材料的表面化學組成。飛行時間二次離子質譜能夠提供高分辨率的表面化學信息,對于分析復雜材料的表面特性、研究薄膜結構、納米材料的表面修飾以及多層復合材料的界面行為具有重要意義。一、TOF-SIMS技術原理飛行時間二次離子質譜利用高能離子束轟擊樣品表面,使樣品表面原子或分子逸出并成為二次離子。通過飛行時間分析這些二次離子,根據其飛行時間和質量比,可以得到樣品表面的化學組成信息。該技術具...
真空快速退火爐是一種在真空或保護氣氛環境下,通過快速加熱和冷卻對材料進行退火處理的設備。主要用于金屬、半導體、陶瓷等材料的熱處理,以提高材料強度、硬度、耐腐蝕性等性能。技術特點:高效節能:采用全纖維節能爐襯,節能30%以上;移動爐罩設計加快冷卻速度,提高設備利用率。精準控溫:高精度智能溫度程序控制系統,PID控制儀表,升溫、保溫程序可自行設定。真空環境:高真空度(可達負壓狀態),避免材料氧化,保持表面光潔度。自動化程度高:自動化控制系統,實現退火過程的精準控制;側刀式軟密封,...
快速動力學停流裝置是一種專門用于研究生物化學反應動力學的儀器。其基本原理是通過快速混合反應物并瞬間停止流動,從而捕捉到反應過程中的瞬間狀態,進而分析反應的動力學參數。這種裝置通常配備有高精度的注射器和混合器,以及靈敏的光譜檢測系統,能夠實現對反應過程的實時監測和數據分析。快速動力學停流裝置的特點主要體現在以下幾個方面:一是具有短的死時間,能夠捕捉到毫秒級甚至亞毫秒級的反應過程;二是具有高精度的混合和稀釋比例,能夠確保反應的準確性和可重復性;三是具有靈活的配置選項,可根據不同的...
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