激光直寫無掩膜光刻機紫外光直寫曝光 ，無需掩模，大幅節約了掩模加工費用，靈活性高，可直接通過電腦設計光刻圖形，并可根據設計要求隨意調整，可升級開放性系統設計，按照客戶要求自由配置，使用維護簡單, 設備耗材價格低，應用范圍廣，目前廣泛應用于半導體、生物芯片、微機電系統、傳感器、微化學、光學等領域。

spin coater勻膠機既在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。

mask aligner半自動光刻機該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優秀的技術、工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

勻膠機，旋涂儀其工作原理是高速旋轉基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同, 也和旋轉速度及時間有關。

無掩膜光刻機, 激光直寫系統是一個高價值的直寫激光光刻機系統，面向大學和研究機構尋求擴大他們的能力。 它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面積書寫。你可以寫任何東西，從光掩模到基礎科學或應用科學的研究原型，集成相機可以用來調整現有的功能寫。

負性光刻膠 （SU-8）-光刻機用 SNR負性光刻膠，針對微機械加工微電子應用，高對比度，環氧樹脂類負性光刻膠。 具有垂直側壁的高縱橫比成像 近紫外（350-400nm）處理 單旋涂膜厚度為1.5至200µm 高度耐化學性和耐溫度性 與已建立的SU-8光刻工藝兼容

納米壓印-光刻機 緊湊型滾筒納米壓印機 我們的桌面R2P納米打印機是原型設計，實驗和產品開發的理想工具。 臺式R2P納米壓印機單元適用于小規模納米壓印光刻工作。該設備是快速原型制作、測試和表征結構特性的理想選擇，其中包括使用光固化樹脂和壓印材料。 ?典型應用范圍從壓印、片上實驗室到衍射光學元件和其他納米壓印結構。桌面R2P納米打印機在其受保護的環境中工作。

全自動光刻機 公司開發并生產用于半導體、MEMS、LED及納米技術相關的實驗室和工業領域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國*家研發并商業化光罩對準曝光機的企業，始終致力于不斷完善、增強技術型企業的核心競爭力。