spin coater勻膠機

spin coater勻膠機

勻膠機有很多種稱謂，英文叫Spin Coater或者Spin Processor，又稱甩膠機、勻膠臺、旋轉涂膠機、旋轉涂膜機、旋轉涂層機、旋轉涂布機、旋轉薄膜機、旋轉涂覆儀、旋轉涂膜儀、勻膜機，總的來說，他們原理都是一樣的，既在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。
勻膠機適用于半導體、硅片、晶片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝, 可在工礦企業、科研、教育等單位作生產、科研、教學之用。勻膠機可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蝕中也被廣泛使用。
由我司提供的勻膠機,在高校、研究所及半導體產業享有很高的聲譽,相信能滿足您多種不同應用要求。
產地：韓國MIDAS公司，
型號：SPIN-1200


勻膠機通用參數:
旋轉襯底最大尺寸：4"、6"、8"、12"、550mm；
按客戶需求提供整體解決方案，可以旋涂最小3mm， 最大1000mm襯底；
從手動到全自動溶質分配的選擇范圍寬大；
無振動轉速最高8000rpm；
真空吸附，無污染；
臺式勻膠機,占用空間小；
具備耐化學性的無縫聚丙烯外罩，并且勻膠機主機易清洗；
聚四氟乙烯（PTFE）的勻膠機可用于強腐蝕性化學材料；
便于程序操作的全尺寸鍵盤，甚至帶著手套都可以方便使用；
可以準確重復運行程序的數字程序控制系統；
高度靈活的多重可編程步驟組成復合程序。


spin coater勻膠機應用范圍：
可用于光刻膠(PR)，聚酰亞胺(Polyimide)，金屬有機物(Metallo-organics)，攙雜劑(Dopant)，硅薄膜(Silica Film)，以及大多數的有機溶液、水溶液；

全自動的勻膠及顯影工藝必需的全自動Chip生產設備：