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有機分子束沉積鍍膜系統

簡要描述:有機分子束沉積鍍膜系統
電子束蒸發系統、熱蒸發系統、超高真空蒸發系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學氣相淀積系統PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強化學氣相沉積、離子泵等

  • 產品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-02-27
  • 訪  問  量:2646

詳細介紹

品牌其他品牌應用領域電子/電池,電氣,綜合

有機分子束沉積鍍膜系統

有機分子束沉積鍍膜系統


儀器簡介:

全球專業的沉積設備制造商,為各個領域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案:電子束蒸發系統、熱蒸發系統、超高真空蒸發系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學氣相淀積系統PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強化學氣相沉積、離子泵等



技術參數:

1.蒸鍍源Cell&電源:
?有機金屬沉積蒸鍍Cell
--最大溫度: 500℃
--坩堝容積和材料: 2~200 cc and Quartz, Graphite,etc
--包含Shutter and Cooling shroud (選件)
--電源:15A, 20V
--溫度控制: PID control
?金屬沉積蒸鍍Cell
--最大溫度: 1,400℃(up to 1,800 ℃)
--坩堝容積和材料: 2~120 cc and Al2O3, BN, PBN, etc
?包括shutter和Cooling shroud
?電源: 30A, 80V
?溫度控制:ntrol : PID control

2.薄膜沉積控制:
?Cygnus and PC控制
--控制沉積參數
----多達6源同時沉積
--石英晶體振蕩器
----一個, 兩個或六個
?膜厚測量
--石英晶體振蕩器
----一個, 兩個或六個

3.真空室:
?圓柱形腔體
--直徑: φ300 ~ 1,000 mm (Substrate : 1 inch to 370 ×400 mm)
-- 高度: 300 ~ 700 mm
?方形腔體
--根據客戶需求定制

4.真空泵和測量裝置:
?低真空: 干泵和convectron真空規
?高真空: 渦輪分子泵,低溫泵和離子規
?超高真空: 離子泵和離子規

5.控制系統:PLC, PC with Touch Screen



主要特點:

擴展功能:
?溫度控制器:基底加熱
?He cooling 裝置:基底冷卻
?LN2or CW 冷卻系統
?傳遞單元:樣品傳遞在有機和金屬處理時
?帶自動樣品遞送裝置的Loadlock樣品加載系統


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