快速化學淬滅系統保證其優良的強度性能

   快速化學淬滅系統在液液混合裝置、細胞收集裝置和電磁反饋控制裝置共同作用下，細胞培養液與低溫細胞淬滅溶液得到充分混合，且細胞可瞬間降至低溫，有效抑制酶活力、代謝淬滅*，引入電磁反饋控制裝置和真空泵使終點的淬滅溶劑濃度可控，實現細胞培養液與低溫細胞淬滅溶液體積比的準確控制，使胞內代謝物數據真實可靠，各裝置之間相輔相成，實現對細胞進行及時、*代謝淬滅。

   快速化學淬滅系統采用上述系統進行代謝淬滅的方法，簡單易行，準確率高，為微生物、動物以及植物細胞的胞內代謝物研究提供技術支持。熒光淬滅是指熒光分子由內部因素和外部因素同時作用造成的不可逆破壞，內部因素主要是分子從激發態回到基態以非輻射躍遷形式釋放能量，外部因素則包含多方面。

   光照射是致熒光淬滅的常見原因，熒光的產生需要光照射，但同時光照射也會促進激發態分子與其他分子相互作用而引起碰撞，使熒光淬滅；標記樣品的熒光淬滅是在熒光顯微鏡和激光共聚焦顯微鏡觀察時遇到的主要問題。快速化學淬滅系統具有更強的功率和聚焦更準確的光束，與普通熒光顯微鏡相比，標本的光漂白作用更為明顯，熒光素的熒光可在連續觀察過程中逐漸減弱或消失。

   快速化學淬滅系統電路采用相同的結構框架，結合主動、門控兩種淬滅方式，通過電阻或電容感應雪崩電流，采用基于失調控制的差分放大低閾值檢測電路，打破傳統設計中淬滅電路的檢測閾值必須大于MOS管開啟電壓的約束，實現對雪崩電流的快速檢測。

   快速化學淬滅系統具有高增益、低功耗、小體積等特點，可以快速分辨并響應單光子信號，現已被廣泛地應用在單光子探測系統中。目前，單光子探測技術正在向集成大陣列方向發展，陣列的一致性探測成為重要性能指標。對于擊穿電壓的非均勻性現象，快速化學淬滅系統的設計對單光子陣列探測系統的性能起著關鍵作用。