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狹縫擠出式涂布機沉積速率高,試驗周期短

更新時間:2022-04-14      點擊次數:851
       狹縫擠出式涂布機是一種利用激光對物體進行轟擊,然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。
  歷史背景:
  早于1916年,愛因斯坦(AlbertEinstein)已提出受激發射作用的假設。可是,首部以紅寶石棒為產生激光媒介的激光器,卻要到1960年,才由梅曼(TheodoreH.Maiman)在休斯實驗研究所建造出來。總共相隔了44年。使用激光來熔化物料的歷史,要追溯到1962年,布里奇(Breech)與克羅斯(Cross)利用紅寶石激光器,汽化與激發固體表面的原子。三年后,史密斯(Smith)與特納(Turner)利用紅寶石激光器沉積薄膜,視為脈沖激光沉積技術發展的源頭。
  涉及高能量脈沖輻射沖擊固體靶時,激光與物質之間的所有物理相互作用,亦包括等離子羽狀物的形成,其后已熔化的物質通過等離子羽狀物到達已加熱的基片表面的轉移,及最后的膜生成過程。
  狹縫擠出式涂布機主要優點:
  1.易獲得期望化學計量比的多組分薄膜,即具有良好的保成分性。
  2.沉積速率高,試驗周期短,襯底溫度要求低,制備的薄膜均勻。
  3.工藝參數任意調節,對靶材的種類沒有限制。
  4.發展潛力巨大,具有極大的兼容性。
  5.便于清潔處理,可以制備多種薄膜材料。
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